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芝浦工業大学 さま(東京都)

オゾンウェイブ1台をご使用中

芝浦工業大学応用化学学科 分離システム工学研究室 野村 幹弘准教授

2010年4月10 日購入

当研究室では、200℃以上の非常に高い温度にて高度なガス分離を行うために、ガラスのような無機素材を利用した

分離膜を開発しています。分離の原理は、ガスの大きさの違いを利用した「ふるい」機構です。

「ふるい」は茶こしの網をものすごく小さくした様なもので、ガス分子と同じくらいのとても小さな孔(0.5ナノメートル

程度)が必要です。

そのためには、無機素材を1ミクロン以下の薄膜とし、さらにガラスに0.5ナノメートル程度の孔をたくさん開けています。

無機材料を均質に製膜する方法として、当研究室では、

対向拡散CVD法(左図)という独特の方法を用いています。

 

この対向拡散CVD法は、2種の反応種を基材の両側より

供給する方法です。蒸着したシリカなどの膜材料により

原料の供給が制御されるので、均質な処理が可能です。

シリカ中に有機物(アルキル基)を導入し、その有機物を

分解するテンプレート法により0.5ナノメートル程度の

孔を作っています。

 

テンプレート法とは、小学校などで行う霧吹き絵の

ようなものです。霧吹き絵は、適当な形に切った

型紙の上から霧を吹き、後で型紙を取り除くことで、

型紙と同じ形が白い部分として現れます。

 

今回用いた方法でも、0.5ナノメートル程度の有機物(アルキル基)を無機材料に導入することで、0.5ナノメートル程度の

均質な孔を得られています。この様な分離膜は、石油化学コンビナートなどで、大幅なエネルギー削減をするデバイス

として、非常に期待されています。

 

この時、反応種の一つとして オゾン を用いています。オゾン発生器に オゾンウェイブを用いており、非常に安定した

結果を得られています。 参考文献に示すように、2年間で20報以上の学術論文や学会での発表を行っており、

国内、海外にて高い評価を得られています。

 

参考文献

1) “Preparation of silica hybrid membranes for high temperature gas separation”, Mikihiro Nomura, Keita Monma, Yoshio Negishi, Emi Matsuyama, Sayuka Kimura, Desalination Water Treat. Sci. Eng., 17, 288-293 (2010)

2) “シリカ複合膜による高温C3H6/C3H8分離”野村幹弘,門間慶太,木村紗有佳,松山絵美,三宅遼,内海惠介,膜,35(5), 236-241 (2010)

3) “Preparation of molecular sieve silica membranes by using a counter diffusion CVD method”, Keita Monma, Toshihiro Nagayo and Mikihiro Nomura, Proc. of 10th International Conference on Inorganic Membranes, Poster II-30, Tokyo, Japan (2008)

4) “Preparation of silica hybrid membranes for high temperature gas separation”, Mikihiro Nomura, Keita Monma, Yoshio Negishi, Emi Matsuyama, Proc. of 5th Conference of Aseanian Membrane Society, P9-80, Kobe, Japan (2009)

5) “Pervaporation separation of organic solutions through a silica hybrid membranes prepared by using a low temperature CVD method”, Emi Matsuyama, Keita Monma, Takumi Ishizu, Yoshio Negishi, Mikihiro Nomura, Proc. of 5th Conference of Aseanian Membrane Society, P5-36, Kobe, Japan (2009)

6) "Permeation mechanisms through zeolite membranes modified by a counter diffusion CVD method", Mikihiro Nomura, Yusuke Saito, Satoko Mori, Hidetoshi Kita, Proc. of International Symposium on Zeolites and Microporous Crystals 2009, Waseda University, Japan, P1-52, (2009)

7) “High temperature C3H6/C3H8 separation through silica hybrid membranes”, Mikihiro Nomura, Keita Monma, Yoshio Negishi, Emi Matsuyama, Sayuka Kimura, Proc. of 11th International Conference on Inorganic Membranes, 415, Washington, U. S. A. (2010)

8) “High temperature gas separation through silica hybrid membranes prepared by using a counter diffusion CVD method”, Mikihiro Nomura, Keita Monma, Emi Matsuyama, Sayuka Kimura, Ryo Miyake, Keisuke Utsumi, Proc. of 3rd International Conference on Ceramics, 164, Osaka, Japan (2010)

9) “低温対向拡散CVD法による水素選択透過シリカ複合膜の開発”,野村幹弘,門間慶太,根岸嘉生,第28回水素エネルギー協会大会,A06,(2008),タワーホール船堀

10) “シリカ複合膜による有機溶媒PV分離の検討”,野村幹弘,松山絵美,石津巧,門間慶太,化学工学会第41回秋季大会,U208, (2009),広島大学

11) “シリカ複合膜による高温での飽和-不飽和炭化水素分離”,門間慶太,根岸嘉生,野村幹弘、中尾愛子,日本膜学会第31年会,2C-3,(2009),東京理科大学

12) “シリカ複合膜による有機溶媒のパーベーパーレーション分離”,松山絵美,石津匠,根岸嘉生,木村紗有佳,門間慶太,野村幹弘,分離技術会 年会2009,S8-P03,(2009),明治大学

13) “分子ふるいシリカ複合膜の耐久性検討”,野村幹弘,門間慶太,木村紗有佳,松山絵美,化学工学会第75回年会,A201 (2010),鹿児島大学

14) “分子ふるいシリカ複合膜の作製とその透過特性”,野村幹弘,門間慶太,松山絵美,木村紗有佳,内海惠介,三宅遼,膜シンポジウム2010,212 (2010),京都大学

15) “対向拡散CVD法によるシリカ複合膜の細孔径制御法の検討”,三宅遼,木村紗有佳,松山絵美,門間慶太,野村幹弘,第12回 化学工学会学生発表会東京大会,D21,(2010),芝浦工業大学

16) “シリカ複合膜の後処理による耐久性向上”,内海惠介,松山絵美,門間慶太,野村幹弘,第12回 化学工学会学生発表会東京大会,D22,(2010),芝浦工業大学

17) “対向拡散CVD法を用いたシリカ複合膜の細孔径制御”,三宅遼,木村紗有佳,松山絵美,門間慶太,野村幹弘,日本膜学会第32年会,P-12S,(2010),産業技術総合研究所 臨海副都心センター

18) “対向拡散CVD法によるシリカ複合膜の後処理”,内海惠介,松山絵美,門間慶太,野村幹弘,分離技術会 年会2010,S8-10P,(2010),明治大学アカデミーコモン

19) “対向拡散CVD法によるゼオライト膜後処理技術の開発”,小野竜平,斉藤佑輔,野村幹弘,喜多英敏,分離技術会 年会2010,S8-11P,(2010),明治大学アカデミーコモン

20) “後処理によるゼオライト膜の改良法の開発”,小野竜平,斉藤佑輔,野村幹弘,喜多英敏,化学工学会宇都宮大会2010,PD105,(2010),宇都宮大学

21) “有機溶媒分離用シリカ複合膜の開発”,松山絵美,内海惠介,三宅遼,木村紗有佳,門間慶太,野村幹弘,化学工学会宇都宮大会2010,PE122,(2010),宇都宮大学

22) “親水性ゼオライト膜の後処理による選択性向上”, 小野竜平,野村幹弘,第10回無機膜研究会,P-3,(2010),かたくら 諏訪湖ホテル